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弘塑

弘塑科技股份有限公司
半導體設備及材料
證交所產業別

公司在公開資訊觀測站登記的產業類別,多半是上市時登記的,公司轉型後不一定會改。本站另外依年報裡的主要業務來分類。

:半導體業

觀察清單只存在你的裝置,不代表推薦。

弘塑 公司速覽影片封面
一句話記住它

機台設備占營業比重69.86%

在做什麼?

做半導體設備

研發製造濕製程化學品

也做設備維修

營收從哪來

2025 年度|

分母

百分比一定是「占什麼的比例」。例如「占營業收入淨額 58%」和「占某張表合計 58%」意思不同,所以本站每個百分比都寫出分母。

 

賣到哪裡

2025 年度|

分母

百分比一定是「占什麼的比例」。例如「占營業收入淨額 58%」和「占某張表合計 58%」意思不同,所以本站每個百分比都寫出分母。

 

賺多少?

營收 2025:65.1 億
營收年增

今年營收比去年多(或少)幾 %。本站用公開資訊觀測站兩個年度的綜合損益表自行計算。

+59.9%
毛利率

(營業收入-營業成本)÷ 營業收入。賣出 100 元的產品,扣掉直接成本後還剩幾 % 。數字越高,代表本業越有賺頭。

2025:41.16%

公開資訊觀測站「綜合損益表彙總」,

合併報表

把母公司和它控制的子公司當成同一家公司來算的財報;「個體」報表則只算母公司自己。兩者的數字可能差很多。

;年增率與單位換算由本站計算。

重點

研發費用占營收淨額5.30%

公司自述

公司在年報裡自己的說法(例如自稱領先、預期成長)。本站照實引用並標示出處,但沒有獨立驗證,請把它當成公司的觀點。

長期計畫與客戶共同開發製程機台

年報重點全文(21 條,逐句查核)

業務範圍

年報載明所營業務包括半導體及積體電路製造設備之工程承包、製造、買賣及維修工程,以及濕製程配方化學品研發與製造等。(第 49 頁)

產品與應用

年報載明機台設備產品包括單晶圓旋轉設備(Single Wafer Spin Processor)、批次式酸槽設備(Batch type Wet Bench System)、複合式製程設備(Combo System)等。(第 49 頁)

年報載明化學產品包括工業級、試藥級、電子級混酸(蝕刻液)、電鑄藥液等。(第 49 頁)

營收結構

114年度機台設備產品營業額為4,550,881仟元,營業比重69.86%。(第 49 頁)

114年度化學產品營業額為1,250,454仟元,營業比重19.19%。(第 49 頁)

114年度維修服務及其他營業額為641,634仟元,營業比重9.85%。(第 49 頁)

銷售地區

114年度內銷(台灣)銷售額為新台幣4,600,871仟元,占該表銷售地區合計之70.63%。(第 53 頁)

114年度外銷(亞洲/美洲等)銷售額為新台幣1,913,624仟元,占該表銷售地區合計之29.37%。(第 53 頁)

主要客戶

113年度某客戶(F客戶)銷貨金額為新台幣1,344,438仟元,占全年度銷貨淨額33.00%。(第 59 頁)

114年度某客戶(B客戶)銷貨金額為新台幣741,814仟元,占全年度銷貨淨額11.39%。(第 59 頁)

主要供應商

114年度供應商樂華進貨金額為新台幣461,753仟元,占全年度進貨淨額13.26%。(第 59 頁)

原料

年報列示主要原料「工程件」之主要供應商包括Aime Tech、視動自動化、全智新等。(第 58 頁)

年報列示主要原料「市購件」之主要供應商包括樂華、億昇、上品等。(第 58 頁)

市場地位

公司於年報自述,114年度設備類製造與代理等收入為4,572,160仟元,占全球半導體設備市場之市佔率約略為1%(年報未載明全球半導體設備市場規模之統計來源)。(第 53 頁)

公司於年報自述,依其自行觀察客戶端之機台採購情形估計,酸槽設備(Wet Bench)在12吋晶圓級封裝中於台灣佔有率為六成。(第 53 頁)

公司於年報自述,依其自行觀察客戶端之機台採購情形估計,單晶片旋轉機台(UBM Etch)在12吋晶圓級封裝中於台灣佔有率約六到八成。(第 53 頁)

研發

114年度研發費用為新台幣345,318仟元。(第 52 頁)

114年度研發費用占營收淨額5.30%,營收淨額為新台幣6,514,495仟元。(第 52 頁)

人力

114年度員工人數合計為497人(員工人數表未載明為母公司或合併範圍)。(第 59 頁)

展望

年報列示主要發展方向之研發項目包括3D IC混合鍵合設備、面板級封裝、CPO矽光子共同封裝、2.5D先進封裝等。(第 50 頁)

年報載明長期業務發展計畫包括與客戶共同開發製程機台,朝向產品多元化發展。(第 52 頁)

資料:弘塑科技股份有限公司 2025 年度年報(2025_3131_20260617F04.pdf)。看完整研究頁(含每句的查核紀錄與參考資料)→#半導體設備#濕製程#化學品